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側(cè)導(dǎo)高真空磁控濺鍍著膜系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時(shí)間：2022-10-02 12:07:39瀏覽次數(shù)：362次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

為配合客戶降低生產(chǎn)成本之所需，本公司特研發(fā)此體積小高產(chǎn)能的新一代真空鍍膜設(shè)備

詳細(xì)介紹

　　

為配合客戶降低生產(chǎn)成本之所需，本公司特研發(fā)此體積小高產(chǎn)能的新一
代真空鍍膜設(shè)備。其特點(diǎn)為︰高自動(dòng)化、抽氣速率快；新穎的轉(zhuǎn)盤
設(shè)計(jì)大大的提升了真空鍍膜設(shè)備的效能﹔單腔體運(yùn)作可降低維修成本；
三濺射靶同時(shí)鍍膜亦可令鍍膜時(shí)間縮短

 系統(tǒng)規(guī)格

生產(chǎn)速度 一爐25 分鐘可放256 制具 約
2265088 PCS<0603>/40 min
  
換料方式 制具轉(zhuǎn)盤整組更換
高真空幫浦 高真空冷凍幫浦10 inch
粗真空幫浦 機(jī)械幫浦，抽氣速率：1000L/min
真空工作室 不銹鋼，附循環(huán)冷卻水管路
濺射靶源 5×22 inch 磁場(chǎng)環(huán)繞平面陰極×3
真空計(jì)量 低真空計(jì)TC gauge 1.0E3～1.0E-3
Torr 高真空計(jì)Ion gauge 1.0E-3～
1.0E-5 Torr
濺射電源 10kw 直流電漿電源供應(yīng)器×3
制程控制 觸控屏幕操作之 全自動(dòng)控制/手動(dòng)
控制單元
制程氣體 氬氣0～200sccm
工作壓力 1.5E-1～1.0E-5 Torr


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